微波RPS源

RPS为Remote Plasma Source的简称,同时也恰恰是Radical Plasma Source的简称。RPS为德国牧歌公司的砖利产品。 Remote Plasma Source翻译为“远端等离子源”,其定义来自RPS的工作原理:即等离子只产生并且存在于RPS本体中,而不是在与之连接的工艺腔体内;工艺腔体内部没有等离子,PRS输入到其中的只有“自由基”(radicals)。因此RPS也成为Radical Plasma Source(自由基等离子源)。 RPS产生的自由基只能与工艺对象进行纯粹的化学反应,从而在产生极少热量的前提下,进行高速无物理损伤的刻蚀。 因此RPS非常适合需要避免离子轰击及高热负荷的工艺。

RPS-REMOTE PLASMA SOURCES

关键要素:

       远程等离子体源系统的独特特性为以下领域提供了前沿技术。

       - 硅、氮化硅、氧化硅的各向同性蚀刻,具有优异的腐蚀速率。

       - 光刻胶剥落在不同的材料上,如硅、氧化硅、金属、高钾、低钾材料。

       - 使用例如2 slm NF3 @ 0.5 Torr的低压清洗室。

       - 柔性PCB电路板:钻孔和去污

       - 表面处理,如硅表面的氮化或氧化

       - 在半导体行业中性能出色

       - 后端应用,如晶圆片细化和应力消除。


   产品特征:


       - 独特的紧凑式设计

       - 水冷式等离子区

       - 效率高

       - 高密度等离子

       - 脉冲模式

       - 超清洁远程等离子电源

       - 适用于高技术半导体加工

       - 易于维护,节约成本和时间

       - 简易的接口可支持任何设备(KF40或ISO-K63)。




选型:


Type

Prim. Heating circuit

Reactor outlet connector

Applicator

HV/Heating Connector

Applicator alignment


MA1250C-003BC

230 V AC / 208 V AC

ISO-K63

Sapphire/Ceramic

Cable lug /Terminals

-


MA2000C-133BB

230 V AC / 208 V AC

ISO-K63

Ceramic

Lemosa / Circular

90°


MA2000C-223BB

230 V AC / 208 V AC

KF40

Ceramic

Lemosa / Circular

90°


MA3000C-283BB

230 V AC / 208 V AC

KF40

Ceramic

Lemosa / Circular


MA3000C-293BB

230 V AC / 208 V AC

ISO-K63

Ceramic

Lemosa / Circular

90°


MA3000C-363BB

230 V AC / 208 V AC

ISO-K63 (optional KF40)

Quartz

ODU


MA3000C-373BB

230 V AC / 208 V AC

ISO-K63 (optional KF40)

Sapphire

ODU


MA3000C-403BB

230 V AC / 208 V AC

KF40

Sapphire

Lemosa / Circular

90°



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产品名称: 微波RPS源
产品型号:
产品展商: MUEGGE
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简单介绍

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