RPS源

      RPS MA3000系列适用于真空室。典型的工艺压力在0.3托和5.0托之间。

      远程等离子体源(RPS)的定义是等离子体只在RPS本身中产生和存在,而不是在过程腔中。

      没有等离子体,只有自由基到达过程腔。因此,RPS系统是理想的应用,必须避免物理影响,如离子轰击和高热负荷。

      由远端等离子体源产生的自由基只在基板表面产生化学反应。这导致了极低的热负荷和损害无蚀刻率高。


     关键要素:

       远程等离子体源系统的独特特性为以下领域提供了前沿技术。

       - 硅、氮化硅、氧化硅的各向同性蚀刻,具有优异的腐蚀速率。

       - 光刻胶剥落在不同的材料上,如硅、氧化硅、金属、高钾、低钾材料。

       - 使用例如2 slm NF3 @ 0.5 Torr的低压清洗室。

       - 柔性PCB电路板:钻孔和去污

       - 表面处理,如硅表面的氮化或氧化

       - 在半导体行业中性能出色

       - 后端应用,如晶圆片细化和应力消除。


产品特征:

- 独特的紧凑式设计

- 水冷式等离子区

- 效率高

- 高密度等离子

- 脉冲模式

超清洁远程等离子电源

- 适用于高技术半导体加工

- 易于维护,节约成本和时间

- 简易的接口可支持任何设备(KF40或ISO-K63)。

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